Reactive Ion Etching MU400 de Plassys

Le réacteur MU 400 de PLASSYS est un réacteur semi-automatique dont l’interface entre le réacteur et l’utilisateur est assurée par un ordinateur. Le système possède deux générateurs de fréquences : RF et ICP. Le premier est un générateur CESAR 133 RF dont la fréquence d’opération est de 13,560 MHz. La puissance maximale est de 300 W avec une charge de 50 Ω. La seconde est une source ICP qui permet de générer une puissance maximale de 2500 W avec une impédance de 50 Ω. L’oscillateur génère un signal sinusoïdal a 13,560 MHz et la puissance réfléchie est contrôlée par une boite d’accord automa­tique. Ce générateur RF est connecté à une antenne permettant l’amorçage du plasma par ICP. Le réacteur est de petite dimension et dispose d'une porte frontale derrière laquelle se trouve un porte-substrat refroidi. La pression résiduelle ainsi que celle de travail dans l’enceinte sont atteintes à l’aide d’une pompe turbomoléculaire assistée d’une pompe primaire a palettes (Alcatel : 63 m3/h). Un système optique interférométrique permet de contrôler la profondeur de gravure du matériau.

Localisation : UTT - Laboratoire L2n