SEM FEG eLine de Raith

Raith e_LiNE est un système de lithographie par faisceau d’électrons basé sur le canon d'émission Schottky. Il est muni d’une platine interférométrique permettant d’atteindre une résolution de déplacement de 2 nm. Cette platine permet l’insolation précise de grandes zones par découpage et réassemblage (stitching) de plus petites zones. L'énergie des électrons varie entre 100 eV et 30 keV et le courant est contrôlé par la sélection d’un des 6 diaphragmes dont l’appareil est muni. Le système est muni d’un sas de transfert ainsi que d’un système FBMS (Fixed Beam Moving Stage). Ce système permet l’insolation de grandes structures en déplaçant la platine sous un faisceau fixe. La zone d’écriture varie typiquement entre 500 nm et 2 mm.  Enfin, ce système de lithographie est muni d’un software permettant la correction des effets de proximité ainsi que d’une platine autorisant les insolations obliques.

Localisation : UTT - Laboratoire L2n