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Optique & photonique

Vous développez des systèmes de communication optique, des capteurs embarqués ou des dispositifs d'analyse spectrale ?

La plateforme nano'mat conçoit et fabrique des composants photoniques intégrés — guides d'ondes, spectromètres, sources lumineuses — sur des substrats variés, en exploitant les propriétés uniques de la lumière à l'échelle nanométrique.

Le L2n est le seul laboratoire de la région Grand Est centré sur la photonique, avec une expertise de pointe, des brevets exploités industriellement et des équipements de fabrication et de caractérisation optique complets.

Procédés & capacités
Lithographie optique Gravure plasma (RIE) Dépôt couches minces Nanofabrication 3D deux-photons Ellipsométrie & spectrophotométrie
Substrats & matériaux
Verre Silicium Métaux (Au, Al, Ag) Polymères photosensibles Oxydes (ZnO, SiO₂)
Secteurs ciblés
Instrumentation optique Télécommunications Spatial & aéronautique LED & éclairage Médical & diagnostique

| Ce que nous savons faire

Fabrication de structures optiques

Réalisation de microstructures et de réseaux sur substrats verre ou silicium par lithographie optique et gravure plasma — pour des applications en détection, filtrage spectral ou guidage de la lumière.

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Dépôt de couches minces optiques

Dépôt contrôlé de couches métalliques et diélectriques par évaporation ou pulvérisation magnétron — antireflets, miroirs, électrodes transparentes, filtres spectraux.

Nanofabrication 3D haute résolution

Fabrication de structures tridimensionnelles complexes par lithographie deux-photons (NanoScribe) — pour des composants optiques miniaturisés ou des architectures photoniques sur mesure.

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Caractérisation des propriétés optiques

Mesure des propriétés optiques de surfaces et couches minces : ellipsométrie, spectrophotométrie UV-visible, spectroscopie Raman, microscopie FLIM.

| Équipements et savoir-faire

Domaine Équipements Applications
Lithographie & structuration Photomasqueur MJB4, RIE MU400 Réseaux de diffraction, microstructures
Dépôt de couches minces EVAP ME300, MEB400, Bâti pulvérisation Intercovamex Couches antireflets, miroirs, filtres
Nanofabrication 3D NanoScribe ZEISS Composants optiques 3D, photonique sur mesure
Caractérisation optique Ellipsomètre M-2000, Spectromètre CARY 100, Source Super-Continuum Mesure propriétés optiques couches et surfaces
Imagerie & analyse Microscope FLIM Zeiss, RAMAN LabRAM Caractérisation matériaux photoniques

| Exemples d'applications

  • › Réalisation de réseaux de diffraction pour l'instrumentation photonique
  • › Dépôt de couches antireflets sur substrats optiques
  • › Fabrication de microstructures pour la détection et le filtrage spectral
  • › Caractérisation de couches minces pour des composants optoélectroniques
  • › Nanofabrication de structures 3D pour des applications en photonique embarquée
  • › Mesure des propriétés optiques de matériaux fonctionnels (réflectance, transmittance, indice)
Vous développez un composant optique, un système de détection embarqué ou un dispositif photonique ?
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mise à jour le 19 juin 2026