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Vous avez besoin de structurer, graver, déposer, synthétiser ou assembler des matériaux à l'échelle du nanomètre ?
La plateforme nano'mat met à votre disposition une chaîne technologique complète de nanofabrication en salle blanche, encadrée par une équipe d'ingénieurs et de chercheurs experts en procédés avancés.
De la conception au prototype, nous intervenons sur des substrats variés — verre, silicium, polymères, carbure de silicium, diamant — pour fabriquer des structures dont les dimensions vont de quelques nanomètres à plusieurs millimètres.
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Procédés Lithographie UV
Lithographie e-beam
Dépôt couches minces
Gravure plasma (RIE)
Lithographie optique 3D submicronique à balayage laser
Nano-synthèse de particules métalliques
Auto-organisation
Fonctionnalisation sélective de surface
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Matériaux traités Silicium
Verre
Polymères
Carbure de silicium (SiC)
Diamant
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Secteurs ciblés Photonique
Électronique de puissance
Aéronautique / spatial
Biomédical
Micro-optique
Sécurité
Instrumentation
Art
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| Ce que nous savons faire
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Définition de motifs nanométriques par exposition UV ou par faisceau d'électrons (e-beam). La lithographie électronique permet d'atteindre des résolutions inférieures à 10 nm, pour des applications en microélectronique, photonique et capteurs. |
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| Équipements clés
| Équipement | Capacité / résolution |
| Lithographe électronique (e-beam) | Résolution < 10 nm |
| Photomasqueur MJB4 (lithographie optique UV) | Résolution ~1 µm |
| Évaporateur / magnetron sputtering | De quelques nm à µm |
| Gravure ionique réactive (RIE MU400) | Gravure sélective et anisotrope |
| Gravure plasma cryogénique | Haute anisotropie, faible rugosité |
| NanoScribe (lithographie optique 3D submicronique à balayage laser) | Résolution ~200 nm en 3D |
| Four haute température | Jusqu'à 1 900 °C |
| Salle de chimie (synthèse, fonctionnalisation) | Nanoparticules métalliques, greffage de surface |
Voir le détail de tous nos équipements sur la page Nos équipements.
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