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Nanofabrication

Vous avez besoin de structurer, graver, déposer, synthétiser ou assembler des matériaux à l'échelle du nanomètre ?

La plateforme nano'mat met à votre disposition une chaîne technologique complète de nanofabrication en salle blanche, encadrée par une équipe d'ingénieurs et de chercheurs experts en procédés avancés.

De la conception au prototype, nous intervenons sur des substrats variés — verre, silicium, polymères, carbure de silicium, diamant — pour fabriquer des structures dont les dimensions vont de quelques nanomètres à plusieurs millimètres.

Procédés

Lithographie UV
Lithographie e-beam
Dépôt couches minces
Gravure plasma (RIE)
Lithographie optique 3D submicronique à balayage laser
Nano-synthèse de particules métalliques
Auto-organisation
Fonctionnalisation sélective de surface

Matériaux traités

Silicium
Verre
Polymères
Carbure de silicium (SiC)
Diamant

Secteurs ciblés

Photonique
Électronique de puissance
Aéronautique / spatial
Biomédical
Micro-optique
Sécurité
Instrumentation
Art

| Ce que nous savons faire


Lithographie optique et électronique

 

Définition de motifs nanométriques par exposition UV ou par faisceau d'électrons (e-beam). La lithographie électronique permet d'atteindre des résolutions inférieures à 10 nm, pour des applications en microélectronique, photonique et capteurs.

Exemple : fabrication de réseaux métalliques nanométriques pour la détection optique.

Réseau de micro-pointes en silice obtenu par lithographie
Dépôt de couches minces


Dépôt de couches minces



Évaporation thermique et pulvérisation cathodique (magnetron sputtering) pour déposer des couches métalliques, diélectriques ou semi-conductrices, avec un contrôle précis de l'épaisseur et de la composition.

Exemple : fabrication de microstructures polymères pour le biomédical.


Gravure et structuration plasma



Gravure sèche par ions réactifs (RIE) pour structurer vos matériaux avec une grande sélectivité. Procédé Bosch disponible pour la gravure profonde du silicium, ainsi qu'un procédé cryogénique — équipement récemment installé sur la plateforme — pour une gravure à très haute anisotropie et faible rugosité.

Exemple : prototypage de composants optoélectroniques pour le spatial et l'aéronautique.

Gravure et structuration plasma
Structure polymère 3D imprimée par polymérisation à deux photons (NanoScribe)


Lithographie optique 3D submicronique à balayage laser



Fabrication additive de structures 3D par polymérisation à deux photons (NanoScribe) — le 2e équipement de ce type en France, compatible multi-résines.

Exemple : réalisation de structures 3D pour la conversion catalytique.


Procédés haute température



Four jusqu'à 1 900 °C et traitements plasma pour la croissance et le traitement de matériaux avancés : carbure de silicium, diamant, matériaux à gap large.

Exemple : développement de procédés de traitement du SiC pour l'électronique embarquée.

Procédés haute température
Synthèse de nanoparticules métalliques par voie chimique


Chimie & fonctionnalisation de surface



Synthèse de nanoparticules métalliques par voie chimique en salle de chimie dédiée, procédés d'auto-organisation pour structurer des surfaces à l'échelle nanométrique sans lithographie, et fonctionnalisation sélective pour greffer des molécules ou des propriétés spécifiques sur un substrat.

Exemple : synthèse et fonctionnalisation de nanoparticules pour la détection optique ou la catalyse.

| Équipements clés

Équipement Capacité / résolution
Lithographe électronique (e-beam) Résolution < 10 nm
Photomasqueur MJB4 (lithographie optique UV) Résolution ~1 µm
Évaporateur / magnetron sputtering De quelques nm à µm
Gravure ionique réactive (RIE MU400) Gravure sélective et anisotrope
Gravure plasma cryogénique Haute anisotropie, faible rugosité
NanoScribe (lithographie optique 3D submicronique à balayage laser) Résolution ~200 nm en 3D
Four haute température Jusqu'à 1 900 °C
Salle de chimie (synthèse, fonctionnalisation) Nanoparticules métalliques, greffage de surface

Voir le détail de tous nos équipements sur la page Nos équipements.

Vous avez un projet de fabrication ou de prototypage à l'échelle nanométrique ?
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mise à jour le 01 juillet 2026