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Optique & photonique

Vous développez des systèmes de communication optique, des capteurs embarqués ou des dispositifs d'analyse spectrale ?

La plateforme nano'mat conçoit et fabrique des composants photoniques intégrés — guides d'ondes, spectromètres, sources lumineuses — sur des substrats variés, en exploitant les propriétés uniques de la lumière à l'échelle nanométrique.

Le L2n est le seul laboratoire de la région Grand Est centré sur la photonique, avec une expertise de pointe, des brevets exploités industriellement et des équipements de fabrication et de caractérisation optique complets.

Procédés & capacités

Lithographie optique
Gravure plasma (RIE)
Dépôt couches minces
Nanofabrication 3D deux-photons
Ellipsométrie & spectrophotométrie
Spectroscopie de fluorescence & dichroïsme circulaire
Mesures basse température (< 4K) & sous champ magnétique/électrique
Intégration de nano-antennes en guides optiques

Substrats & matériaux

Verre
Silicium
Métaux (Au, Al, Ag)
Polymères photosensibles
Oxydes (ZnO, SiO2)
SOI, SiN, SiC (optique intégrée)

Secteurs ciblés

Instrumentation optique
Télécommunications
Spatial & aéronautique
LED & éclairage
Médical & diagnostic

| Ce que nous savons faire


Fabrication de structures optiques

 

Réalisation de microstructures et de réseaux sur substrats verre ou silicium par lithographie optique et gravure plasma — pour des applications en détection, filtrage spectral ou guidage de la lumière.

Exemple : réseaux de diffraction pour l'instrumentation photonique.

Fabrication de structures optiques
Dépôt de couches minces optiques


Dépôt de couches minces optiques



Dépôt contrôlé de couches métalliques et diélectriques par évaporation ou pulvérisation magnétron — antireflets, miroirs, électrodes transparentes, filtres spectraux.

Exemple : couches antireflets sur substrats optiques.


Nanofabrication 3D haute résolution



Fabrication de structures tridimensionnelles complexes par lithographie deux-photons (NanoScribe) — pour des composants optiques miniaturisés ou des architectures photoniques sur mesure.

Exemple : structures 3D pour la photonique embarquée.

Nanofabrication 3D haute résolution
Caractérisation des propriétés optiques

Caractérisation des propriétés optiques

Mesure des propriétés optiques de surfaces et couches minces : ellipsométrie, spectrophotométrie UV-visible, spectroscopie Raman, microscopie FLIM, spectroscopie de fluorescence et dichroïsme circulaire. La plateforme dispose également de moyens de mesure en conditions extrêmes : basse température (< 4K) et sous champ magnétique ou électrique, pour l'étude des propriétés photoniques, plasmoniques et quantiques des matériaux.

Exemple : mesure de réflectance, transmittance et indice de matériaux fonctionnels.

| Équipements clés

Équipement Capacité / résolution
Photomasqueur MJB4 / RIE MU400 Structuration optique, résolution ~1 µm
EVAP ME300 / MEB400 Couches optiques minces, contrôle nanométrique
Ellipsomètre M-2000, Spectromètre CARY 100 Mesure des propriétés optiques de surfaces et couches
Microscope FLIM Zeiss, RAMAN LabRAM Caractérisation optique de matériaux photoniques

Voir le détail de tous nos équipements sur la page Nos équipements.

Vous développez un composant optique, un système de détection embarqué ou un dispositif photonique ?
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mise à jour le 01 juillet 2026