Le Nanoscribe est un système de lithographie 3D par écriture laser directe. Il permet de fabriquer des structures polymères bi et tridimensionnelles complexes grâce à la micro- et nano-structuration de matériaux photosensibles : résines organiques, matériaux hybrides ou semi-conducteurs amorphes.
Principe de fonctionnement
Le système est équipé d'une source laser émettant des impulsions ultra-courtes (<120 fs) à 100 MHz et à une longueur d'onde de 780 nm. À cette longueur d'onde, le matériau exposé est complètement transparent. Lorsque l'intensité du laser dépasse un certain seuil, un processus d'absorption à deux photons se déclenche, induisant une réaction de photopolymérisation ou de photodissociation uniquement dans le volume focal du faisceau.
C'est cette réaction de photomodification locale qui permet l'écriture de structures complexes dans les trois dimensions. L'inscription directe se fait via un logiciel d'écriture qui synchronise le mouvement de l'échantillon avec l'intensité du laser.
Le déplacement de l'échantillon par rapport au faisceau d'écriture se fait en associant une étape de balayage piézoélectrique (zone de débattement : 300×300×300 µm²) avec une platine motorisée (zone de débattement de 130×100 mm²). Le système offre également un positionnement autofocus dans les 3D avec une précision d'environ ±30 nm.
Fiche technique
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NanofabricationApplications
Micro-optique Microfluidique Structures photoniques Scaffolds biologiques MEMS / microsystèmesExemple de réalisation
Caractéristiques techniques
| Paramètre | Valeur |
| Source laser | 780 nm, impulsions <120 fs, 100 MHz |
| Zone piézoélectrique | 300 × 300 × 300 µm² |
| Zone platine motorisée | 130 × 100 mm² |
| Précision autofocus | ± 30 nm |
| Matériaux compatibles | Résines photosensibles organiques, matériaux hybrides, semi-conducteurs amorphes (As2S3...) |
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mise à jour le 19 juin 2026